实验室粉体粒子预处理设备：依托稳定负压分散原理，可快速、均匀、无损完成各类样品粒子分散处理，有效解决传统手动分散不均匀、颗粒团聚、样品损伤、效率低下等问题。

高精度多功能薄膜制备：其核心优势在于高速沉积效率、膜层均匀性佳、附着力强，可实现多种材料的薄膜制备，且能精准控制膜厚，广泛适配实验室及中小批量生产需求。

高真空蒸发镀膜仪：采用电阻式蒸发原理，通过大电流加热钼舟支架上的镀膜材料，使其在高真空环境下快速蒸发，均匀沉积于样品表面，可获得致密性、附着力俱佳的镀膜效果，适配高精度镀膜需求。

高真空磁控溅射镀膜机：其核心优势在于高速沉积效率、膜层均匀性佳、附着力强，可实现多种材料的薄膜制备，且能精准控制膜厚，广泛适配实验室及中小批量生产需求。

热蒸发碳膜仪：采用低真空热蒸发技术，属于物理气相沉积（PVD）范畴，专为超薄碳膜制备设计。

喷金喷碳仪：双功能共享一套真空系统与控制系统，无需更换设备即可完成两种预处理工艺，大幅提升样品处理效率与兼容性。

磁控溅射镀膜仪：搭载透明玻璃腔体、低温无热损伤溅射工艺，可更换金 / 铂 / 银等靶材，镀层颗粒 4–20nm 可调，适配 SEM 绝缘样品喷镀、实验室导电电极制备。

喷金仪：在低真空环境下，电场作用使电子加速撞击工作气体（如氩气）产生等离子体，等离子体中的正离子被电场加速后高速轰击靶材表面，使靶材原子获得足够能量脱离并均匀沉积在样品表面，形成致密的纳米级导电薄膜。

采用热蒸发结合全自动脉冲式控制技术，属于升级款物理气相沉积（PVD）设备，核心优势远超传统直热式喷碳仪。

SD-900M 磁控溅射仪为博远微朗出品的经济型电镜制样镀膜设备，搭载透明玻璃腔体、低温无热损伤溅射工艺，可更换金 / 铂 / 银等靶材，镀层颗粒 4–20nm 可调，适配 SEM 绝缘样品喷镀、实验...

SD-650MH磁控溅射镀膜机是博远微朗（原博远微纳）推出的科研级高真空磁控溅射镀膜设备，专为高校科研、材料研发与中小批量精密镀膜场景设计，设备稳定性强、适配性广，可满足金属、半导体、绝缘体等各类薄膜...