SD-650MH高真空电子束溅射镀膜
SD-650MH
SD-980全自动热蒸发镀膜
SD-980
SD-650MH高真空溅射镀膜 PVD
SD-650MH
SD-650MH高真空直流溅射镀膜
SD-650MH
SD-900C手套箱版溅射镀膜仪
SD-900C
SD-980脉冲式热蒸发镀膜
SD-980
SD-800C加热蒸发系统
SD-800C
SD-650MH离子溅射镀膜仪
SD-650MH
SD-800C热蒸发镀膜机
SD-800C
SD-900M小型离子溅射仪
SD-900M
SD-800C低真空热蒸发喷碳仪
SD-800C
SD-PD260A高精度粒子分散预处理设备
SD-PD260A

在电子显微分析领域,对绝缘样品进行导电处理是一道绕不开的工序。陶瓷、高分子材料、生物组织等样品本身不导电,在电子束照射下容易积累电荷,导致图像出现异常亮斑或条纹,严重时甚至无法成像。传统做法是在样品表面镀一层导电薄膜,而碳膜因其对能谱分析干扰较小、易于后续去除等特点,在电镜制样中应用广泛。然而,制备碳膜的过程本身也可能对样品造成伤害,尤其是那些对热敏感或结构脆弱的样品,比如冷冻切片、超薄纳米材料以及含水生物组织。热蒸发镀碳是物理气相沉积的一种实现方式。其基本思路是在真空环境下...
在电化学实验台上,一枚微型电极正等待一层导电膜;在扫描电镜的载物台上,一块矿物薄片正等待消除电荷。低真空磁控溅射喷金技术,以温和而精准的方式,为这些需求铺就了一层纳米级的金属薄膜。低真空磁控溅射喷金归属于物理气相沉积技术体系,其核心机理在于磁与电的协同作用。设备通过磁场束缚电子的运动轨迹,使电子在电场与磁场的共同作用下高频撞击工作气体,例如氩气,从而产生等离子体;等离子体中的正离子被加速后轰击金、铂等靶材表面,使靶材原子脱离靶面并均匀沉积在样品表面,形成纳米级导电薄膜。与传统...
一块陶瓷断面、一片生物组织、一层高分子膜,这些绝缘样品在扫描电镜的电子束下,往往因为无法及时导出电荷而显得模糊不清。离子溅射仪为它们披上一层薄薄的铂膜,微观世界的轮廓随即清晰起来。离子溅射仪采用专属的二极溅射技术,归属于物理气相沉积范畴,其核心结构由阴极靶与阳极样品室构成。在低真空环境下,电场作用使电子加速并撞击工作气体,例如氩气,从而产生等离子体;等离子体中的正离子在电场中被加速后,高速轰击靶材表面,使靶材原子获得足够能量脱离靶面,并均匀沉积在样品表面,形成致密的纳米级导电...
当一份含水丰富、厚度极薄的生物样品被送入扫描电镜的样品室时,它最需要的不是厚重的金属覆盖,而是一层轻薄的碳膜。低真空热蒸发喷碳仪,正是为热敏、超薄样品的预处理而设计的专属技术方案。低真空热蒸发喷碳仪采用低真空热蒸发技术,归属于物理气相沉积范畴,其设计初衷直指超薄碳膜的制备。设备在低真空环境下运行,通过高压大电流精准加热碳纤维双丝,使碳纤维在短时间内快速升华,转化为弥漫腔体的碳蒸汽,碳蒸汽随即在样品表面均匀沉积,形成致密、超薄的导电碳膜。这一过程无需高温烘烤,也无需复杂的磁路结...
在日常技术支持中,用户经常问我们:“金靶或铂靶用了多久需要更换?”作为VPI应用工程师,我们的建议是:不要只看使用时间或溅射次数,应以靶材的侵蚀状态和剩余厚度为主要依据。或者可以参考今天的分享哈~先检查靶材表面磁控溅射过程中,靶面通常会形成环形、三角形或其他形状的集中侵蚀区域,这是正常现象。需要重点关注以下情况:侵蚀沟槽已经很深,局部靶材明显变薄;靶面出现针孔或已经穿孔;可以看到靶材下方的靶托、背板或结合层;靶材出现裂纹、翘曲、脱层或异常烧蚀;侵蚀集中在一侧,磨损明显不均匀。...
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