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产品推荐
离子溅射镀膜仪

离子溅射镀膜仪:高速沉积效率、膜层均匀性佳、附着力强,可实现多种材料的薄膜制备,且能精准控制膜厚,适配实验室及中小批量生产需求。

实验室粉体粒子预处理设备

实验室粉体粒子预处理设备:依托稳定负压分散原理,可快速、均匀、无损完成各类样品粒子分散处理,有效解决传统手动分散不均匀、颗粒团聚、样品损伤、效率低下等问题。

高精度多功能薄膜制备

高精度多功能薄膜制备:其核心优势在于高速沉积效率、膜层均匀性佳、附着力强,可实现多种材料的薄膜制备,且能精准控制膜厚,广泛适配实验室及中小批量生产需求。

高真空蒸发镀膜仪

高真空蒸发镀膜仪:采用电阻式蒸发原理,通过大电流加热钼舟支架上的镀膜材料,使其在高真空环境下快速蒸发,均匀沉积于样品表面,可获得致密性、附着力俱佳的镀膜效果,适配高精度镀膜需求。

高真空磁控溅射镀膜机

高真空磁控溅射镀膜机:其核心优势在于高速沉积效率、膜层均匀性佳、附着力强,可实现多种材料的薄膜制备,且能精准控制膜厚,广泛适配实验室及中小批量生产需求。

热蒸发碳膜仪

热蒸发碳膜仪:采用低真空热蒸发技术,属于物理气相沉积(PVD)范畴,专为超薄碳膜制备设计。

喷金喷碳仪

喷金喷碳仪:双功能共享一套真空系统与控制系统,无需更换设备即可完成两种预处理工艺,大幅提升样品处理效率与兼容性。

磁控溅射镀膜仪

磁控溅射镀膜仪:搭载透明玻璃腔体、低温无热损伤溅射工艺,可更换金 / 铂 / 银等靶材,镀层颗粒 4–20nm 可调,适配 SEM 绝缘样品喷镀、实验室导电电极制备。

喷金仪

喷金仪:在低真空环境下,电场作用使电子加速撞击工作气体(如氩气)产生等离子体,等离子体中的正离子被电场加速后高速轰击靶材表面,使靶材原子获得足够能量脱离并均匀沉积在样品表面,形成致密的纳米级导电薄膜。

喷碳仪

喷碳仪采用热蒸发结合全自动脉冲式控制技术,属于升级款物理气相沉积(PVD)设备,核心优势远超传统直热式喷碳仪。

磁控溅射仪

SD-900M 磁控溅射仪为博远微朗出品的经济型电镜制样镀膜设备,搭载透明玻璃腔体、低温无热损伤溅射工艺,可更换金 / 铂 / 银等靶材,镀层颗粒 4–20nm 可调,适配 SEM 绝缘样品喷镀、实验...

磁控溅射镀膜机

SD-650MH磁控溅射镀膜机是博远微朗(原博远微纳)推出的科研级高真空磁控溅射镀膜设备,专为高校科研、材料研发与中小批量精密镀膜场景设计,设备稳定性强、适配性广,可满足金属、半导体、绝缘体等各类薄膜...

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关于我们
博远微朗(北京)技术发展有限公司(简称VPI)创立于2004年,与北京博远微纳科技有限公司、北京意力博通技术发展有限公司同属同一股东团队管辖,是中国区专注于样品制备、真空镀膜和电镜耗材销售的一站式综合服务提供商。公司深耕行业二十载,现有员工三十余人,其中研发工程师5人、技术应用工程师4人,核心团队凭借专业实力,竭力为客户解决磁控溅射镀膜中的各类技术问题。业务聚焦研发、生产与销售三大板块,产品线覆盖三类核心产品:•样品制备仪器:可满足科学研究、材料表征及半导体、电子元器件制造等领域的薄膜样品制备需求;•真空镀膜系统:能在样品表面形成功能性薄膜涂层,提供保护与性能优化解决方案;•电镜配套耗材:包括标本支架、导电胶带、碳绳、溅射靶材、金属膜等,全面适配电子显微镜操作及真空系统使用场景。二十年来,VPI始终以“为客户创造价值”为核心理念,坚守“只为更好”的品牌信念,凭借高性价比、性能稳定、适配性强的核心优势赢得市场认可。通过优化设计与规模化生产实现成本可控,以严苛出厂测试保障设备长期稳定运行,更提供多样化型号及定制选项,灵活适配实验室研发与产业化生产等不同需求。截至2022年底,公司已与超过2000所大学、院校、研究中心及企业建立合作关系,累计销售各型号真空镀膜仪超3000台,设备广泛应用于半导体、材料科学、生物医疗等前沿领域,为纳米薄膜沉积、表面处理等关键工艺提供有力支撑,助力科研与工业创新突破。作为科研创新之路的可靠伙伴,VPI不仅提供高品质产品,更配套全面的技术支持与售后服务。未来,公司将持续以创新驱动发展、以服务铸就口碑,为客户创造更大价值。
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典型客户
  • 在电子显微分析领域,对绝缘样品进行导电处理是一道绕不开的工序。陶瓷、高分子材料、生物组织等样品本身不导电,在电子束照射下容易积累电荷,导致图像出现异常亮斑或条纹,严重时甚至无法成像。传统做法是在样品表面镀一层导电薄膜,而碳膜因其对能谱分析干扰较小、易于后续去除等特点,在电镜制样中应用广泛。然而,制备碳膜的过程本身也可能对样品造成伤害,尤其是那些对热敏感或结构脆弱的样品,比如冷冻切片、超薄纳米材料以及含水生物组织。热蒸发镀碳是物理气相沉积的一种实现方式。其基本思路是在真空环境下...

  • 在电化学实验台上,一枚微型电极正等待一层导电膜;在扫描电镜的载物台上,一块矿物薄片正等待消除电荷。低真空磁控溅射喷金技术,以温和而精准的方式,为这些需求铺就了一层纳米级的金属薄膜。低真空磁控溅射喷金归属于物理气相沉积技术体系,其核心机理在于磁与电的协同作用。设备通过磁场束缚电子的运动轨迹,使电子在电场与磁场的共同作用下高频撞击工作气体,例如氩气,从而产生等离子体;等离子体中的正离子被加速后轰击金、铂等靶材表面,使靶材原子脱离靶面并均匀沉积在样品表面,形成纳米级导电薄膜。与传统...

  • 一块陶瓷断面、一片生物组织、一层高分子膜,这些绝缘样品在扫描电镜的电子束下,往往因为无法及时导出电荷而显得模糊不清。离子溅射仪为它们披上一层薄薄的铂膜,微观世界的轮廓随即清晰起来。离子溅射仪采用专属的二极溅射技术,归属于物理气相沉积范畴,其核心结构由阴极靶与阳极样品室构成。在低真空环境下,电场作用使电子加速并撞击工作气体,例如氩气,从而产生等离子体;等离子体中的正离子在电场中被加速后,高速轰击靶材表面,使靶材原子获得足够能量脱离靶面,并均匀沉积在样品表面,形成致密的纳米级导电...

  • 当一份含水丰富、厚度极薄的生物样品被送入扫描电镜的样品室时,它最需要的不是厚重的金属覆盖,而是一层轻薄的碳膜。低真空热蒸发喷碳仪,正是为热敏、超薄样品的预处理而设计的专属技术方案。低真空热蒸发喷碳仪采用低真空热蒸发技术,归属于物理气相沉积范畴,其设计初衷直指超薄碳膜的制备。设备在低真空环境下运行,通过高压大电流精准加热碳纤维双丝,使碳纤维在短时间内快速升华,转化为弥漫腔体的碳蒸汽,碳蒸汽随即在样品表面均匀沉积,形成致密、超薄的导电碳膜。这一过程无需高温烘烤,也无需复杂的磁路结...

  • 在日常技术支持中,用户经常问我们:“金靶或铂靶用了多久需要更换?”作为VPI应用工程师,我们的建议是:不要只看使用时间或溅射次数,应以靶材的侵蚀状态和剩余厚度为主要依据。或者可以参考今天的分享哈~先检查靶材表面磁控溅射过程中,靶面通常会形成环形、三角形或其他形状的集中侵蚀区域,这是正常现象。需要重点关注以下情况:侵蚀沟槽已经很深,局部靶材明显变薄;靶面出现针孔或已经穿孔;可以看到靶材下方的靶托、背板或结合层;靶材出现裂纹、翘曲、脱层或异常烧蚀;侵蚀集中在一侧,磨损明显不均匀。...

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