喷金喷碳仪：双功能共享一套真空系统与控制系统，无需更换设备即可完成两种预处理工艺，大幅提升样品处理效率与兼容性。

整机结构

1、 采用主机+副机分体式设计，主机尺寸300mm×360mm×380mm、副机300mm×360mm×140mm（W×D×H），

2、总重40Kg，副机专属承载热蒸发模块，主机集成溅射与真空系统，布局优化且占用空间仅0.22㎡，较同类复合设备体积缩减40%，适配实验室紧凑空间，一体化复合结构无通用替代方案。

样品室与双功能系统

1、 样品室尺寸160mm×120mm（D×H），采用高透光硼硅酸盐玻璃，可实时观察双功能镀膜过程。

2、 溅射面积Φ50mm，蒸碳面积70mm。

靶材与蒸发材料

标配Φ50mm×0.1mm高纯度铂（Pt）靶材（纯度99.99%），溅射均匀性偏差≤±3%；蒸发材料采用专属碳纤维绳，耐高温、蒸发速率稳定，相较于石墨蒸发源，碳膜纯度更高、附着力更强，且与热蒸发模块精准适配。

溅射与蒸碳控制参数

1、 溅射参数：最高电压-1600DCV，

最大电流50mA，

电流稳定度±0.1mA，

标准溅射速率40nm/分钟，

0-999s定时器秒级调控；

2、 蒸碳参数：最高电压28V，

最大电流100A，

0-1s瞬时加热控制，

可精准制备10-50nm超薄碳膜。

真空与气路系统

皮拉尼真空计，测量范围1×10⁻³-1×10³mbar，显示精度±0.01mbar，可稳定维持≤4×10⁻²mbar工作真空度；专属微型真空气阀可连接φ3mm软管，可连通惰性气体提高成膜质量，保障双功能真空环境稳定性。

动力与冷却系统

1、 标配2L/S机械泵，与双功能系统适配性佳，运行噪音≤55dB，从大气抽至工作真空度仅需3-5分钟；

2、 冷却系统标配风冷，效率较通用风冷提升25%。

靶体配置

1、 标配二极直流溅射靶，满足常规喷金需求；

2、 选配磁控靶（适配后溅射电流可达100mA），磁控靶采用专属磁路设计，溅射速率较二极靶提升30%。