脉冲式热蒸发镀膜：采用热蒸发结合全自动脉冲式控制技术，属于升级款物理气相沉积（PVD）设备，核心优势超传统直热式喷碳仪。

高精度低温无损镀膜设备：搭载透明玻璃腔体、低温无热损伤溅射工艺，可更换金 / 铂 / 银等靶材，镀层颗粒 4–20nm 可调，适配 SEM 绝缘样品喷镀、实验室导电电极制备。

桌面型高精度低温镀膜设备：搭载透明玻璃腔体、低温无热损伤溅射工艺，可更换金 / 铂 / 银等靶材，镀层颗粒 4–20nm 可调，适配 SEM 绝缘样品喷镀、实验室导电电极制备。

桌面型磁控溅射仪：搭载透明玻璃腔体、低温无热损伤溅射工艺，可更换金 / 铂 / 银等靶材，镀层颗粒 4–20nm 可调，适配 SEM 绝缘样品喷镀、实验室导电电极制备。

高真空磁控溅射镀膜仪：其核心优势在于高速沉积效率、膜层均匀性佳、附着力强，可实现多种材料的薄膜制备，且能精准控制膜厚，广泛适配实验室及中小批量生产需求。

高真空磁控溅射镀膜机：其核心优势在于高速沉积效率、膜层均匀性佳、附着力强，可实现多种材料的薄膜制备，且能精准控制膜厚，广泛适配实验室及中小批量生产需求。