磁控溅射镀膜仪：搭载透明玻璃腔体、低温无热损伤溅射工艺，可更换金 / 铂 / 银等靶材，镀层颗粒 4–20nm 可调，适配 SEM 绝缘样品喷镀、实验室导电电极制备。

磁控溅射镀膜仪简介：

       通过磁场束缚电子运动，使电子在电场与磁场协同作用下高频撞击工作气体（如氩气）产生等离子体，等离子体中的正离子被加速后轰击铂（Pt）、金（Au）等靶材表面，使靶材原子脱离并均匀沉积在样品表面形成纳米级导电薄膜的核心技术。相较于传统蒸镀喷金，该技术无需高温加热靶材，可避免样品热损伤，且薄膜附着力更强、均匀度更高；针对低真空场景优化的磁路设计，能在≤4×10⁻²mbar真空度下稳定产生等离子体，兼顾设备小型化与镀膜精度，是实验室精密样品处理的专属技术方案。

磁控溅射镀膜仪技术参数：

主流应用场景：

1、科研检测领域：

       适配扫描电镜（SEM）样品预处理，为陶瓷、塑料、生物组织等绝缘样品喷镀纳米级铂膜，消除电子积累导致的成像模糊问题，可支持10万倍以上高倍镜下的精准成像。如口罩滤材检测、生物细胞观察、高分子材料形貌分析等场景，是科研数据精准获取的必需要备的环节。

2.电子元器件领域：

        用于小型半导体芯片、柔性电子电极、传感器探头等精密部件的表面导电处理，沉积的铂膜兼具高导电性与化学稳定性，可降低接触电阻、提升部件抗腐蚀能力，适配微电子器件的小型化、高精度需求。

3.生物医疗领域：

        在xue糖仪试纸、DNA检测芯片等医疗耗材表面制备微米级铂电极阵列，利用铂的生物相容性避免与生物样本反应，同时保障检测信号的稳定传输，助力精准医疗检测场景的耗材制备。

4.小型精密制造领域：

       针对小型不规则部件（如微型陶瓷传感器、精密金属触点）进行局部喷金处理，无需大型设备繁琐调试，可快速完成小批量样品的表面改性，大幅提升生产效率与产品一致性。