在日常技术支持中，用户经常问我们：“金靶或铂靶用了多久需要更换？”作为VPI 应用工程师，我们的建议是：不要只看使用时间或溅射次数，应以靶材的侵蚀状态和剩余厚度为主要依据。或者可以参考今天的分享哈~
先检查靶材表面
磁控溅射过程中，靶面通常会形成环形、三角形或其他形状的集中侵蚀区域，这是正常现象。需要重点关注以下情况：
侵蚀沟槽已经很深，局部靶材明显变薄；
靶面出现针孔或已经穿孔；
可以看到靶材下方的靶托、背板或结合层；
靶材出现裂纹、翘曲、脱层或异常烧蚀；
侵蚀集中在一侧，磨损明显不均匀。
对于 VPI 设备常用的薄片式金靶或铂靶，一旦出现孔洞，建议立即更换。继续使用可能使靶托或背板参与溅射，造成膜层污染，甚至损伤靶源。
对于较厚的磁控靶，可以测量侵蚀最深位置的剩余厚度。一般工程经验是在侵蚀深度接近靶材原始厚度的 75% 时安排更换，但具体标准仍应以设备型号、靶材结构和 VPI 技术要求为准。
观察工艺是否发生持续变化
靶材接近使用寿命时，可能出现以下表现：
相同参数下，达到目标膜厚所需的时间变长；
膜厚仪显示沉积速率持续下降；
等离子体分布不均匀；
电流或电压难以稳定；
溅射过程中频繁打火；
膜层均匀性或批次重复性变差。
这些现象只能作为辅助判断。真空度不足、氩气流量变化、腔体污染、靶面污染或膜厚仪晶振老化，也可能产生类似问题。因此，我们通常建议先检查设备状态，再确认靶材的实际侵蚀程度。
金靶和铂靶不能直接比较时间
铂的溅射速率通常低于金。相同电流和溅射时间下，铂膜可能比金膜薄，因此铂靶需要更长时间并不代表靶材已经老化。
更合理的方法是分别建立金靶和铂靶的历史工艺基准，比较相同条件下的沉积速率、膜厚和放电状态。
VPI应用工程师建议
实验室可以定期进行以下检查：
1.拍照记录靶面的侵蚀形貌；
2.检查是否出现孔洞、裂纹或背板暴露；
3.对较厚靶材测量侵蚀沟槽深度；
4.比较相同工艺下的沉积速率和膜厚；
5.记录异常打火、电流波动和膜层均匀性变化。
简单来说：看靶面、测厚度、查速率、看放电。出现穿孔或背板暴露时必须更换；沉积变慢或放电不稳时，应结合设备状态综合判断。
注意：更换靶材前，请关闭溅射电源！待设备安全停机、放气并充分冷却后再操作。由于不同 VPI 型号的靶头结构、靶材尺寸和冷却方式不同，如无法判断，建议将设备型号、靶面照片和近期工艺参数提供给 VPI 应用工程师进行确认。
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更新时间：2026-10-16
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