低真空热蒸发喷碳仪：采用低真空热蒸发技术，属于物理气相沉积（PVD）范畴，专为超薄碳膜制备设计。

热蒸发碳膜仪：采用低真空热蒸发技术，属于物理气相沉积（PVD）范畴，专为超薄碳膜制备设计。

低真空热蒸发镀碳仪：采用低真空热蒸发技术，属于物理气相沉积（PVD）范畴，专为超薄碳膜制备设计。

热蒸发镀碳仪：属于升级款物理气相沉积（PVD）设备，核心优势远超传统直热式喷碳仪。