全自动二极直流溅射设备：是电镜制样、材料电极制备、基础镀膜实验场景的高性价比通用主流设备。

全自动二极直流溅射设备简介：

       一款升级款三靶位全自动二极直流溅射设备，基于成熟稳定的DC直流二极溅射原理打造，主打一机多材、无需换气、免换靶镀膜、参数可调可控。设备突破传统单靶、双靶溅射仪操作繁琐、只能制备单层膜的局限，搭载三靶独立工作系统，可在不更换靶材、不重新抽真空的前提下，一键切换靶材、连续制备单层或多层复合薄膜，兼顾经济性、稳定性与工艺拓展性。整机结构精简、操作简易、运行可靠，是电镜制样、材料电极制备、基础镀膜实验场景的高性价比通用主流设备。

场景应用：

       科研、教学、实验通用

1. SEM电镜样品预处理

       专为扫描电子显微镜（SEM）样品观测前置处理设计，可对各类绝缘样品、热敏样品、微观观测样品进行精准喷金、喷铂、喷银镀膜，有效消除样品荷电效应、解决成像模糊、画面失真问题，保障高倍镜下微观结构清晰成像，是电镜实验室标配基础设备。

2. 新材料实验电极制备

       多用于各类非导体材料的实验导电电极制备，可通过镀金、镀铂、镀银工艺，在高分子材料、陶瓷材料、薄膜材料、复合材料表面制备均匀导电电极，满足材料电学性能测试、性能表征、器件试制的基础实验需求。

3. 多品类基础镀膜实验

       依托多靶材、多气体、多参数可调的拓展能力，可满足实验室各类常规条件下的单层、多层复合薄膜镀膜实验，适配高校教学实训、科研基础实验、材料性能改性等多元场景，通用性强。

全自动二极直流溅射设备技术参数

主机规格：整机尺寸340mm×390mm×300mm（W×D×H），桌面紧凑型设计，部署灵活、占用空间小。

靶材系统：标配三靶头结构，上部电极靶规格Φ50mm×0.1mm，支持金、银、铂、铜、铱等多类靶材适配，可自由切换多材质镀膜工艺。

样品室结构：采用高透光硼硅酸盐玻璃样品室，尺寸170mm×130mm（D×H），全程可视镀膜过程；搭载自动旋转样品台，可跟随靶材工作状态自适应旋转，保障膜厚均匀一致。

真空与气路系统：极限工作真空度≤4×10⁻²mbar，配备微型精密真空气阀，可对接Φ3mm软管，支持通入多种惰性气体，优化镀膜纯度与膜层质量。

电气控制参数：最高工作电压-1600DCV，最大工作电流50mA；搭载0-999S数码精准定时器，秒级控时、镀膜厚度精准可控；镀膜速率0-40nm/min连续可调，膜层颗粒4-20nm精细化可控。

真空动力系统：标配2L/S专用机械泵，抽气稳定、噪音低、适配性强，可快速建立标准工作真空环境，满足高频次样品处理需求。