二级直流溅射仪：设备依托成熟的二极溅射技术，主打皮实耐用、操作极简、参数稳定、高性价比，是实验室常规SEM制样、基础导电镀膜、教学科研实验的经典主力设备。

二级直流溅射仪简介：

       在标准低真空工作环境下，电场驱动电子高速运动，撞击氩气等工作气体激发产生均匀等离子体；等离子体内部正离子经电场加速后，稳定轰击贵金属靶材表面，使靶材原子有序脱离、均匀沉积在样品表面，形成致密、附着力优异、厚度均匀的纳米级导电薄膜。

       相较于磁控溅射复杂结构，本机二极溅射架构精简可靠、故障率极低、运维成本微小，无需复杂磁路调试，可在≤4×10⁻²mbar低真空环境下持续稳定作业。设备针对实验室小型常规样品预处理场景专项优化溅射参数，工艺成熟、重复性高，操作门槛极低，是通用镀膜设备的经典基础方案。

适用场景：

       为扫描电镜（SEM）常规样品预处理打造，适配陶瓷、塑料、生物组织、高分子材料、绝缘复合材料等各类绝缘样品。通过镀覆高均匀度纳米铂导电薄膜，可消除样品表面电子堆积、荷电干扰问题，有效解决成像模糊、画面失真、边缘发白等问题，稳定支持10万倍以上超高倍率微观精准成像，满足材料形貌分析、微观结构检测、样品性能表征等常规科研检测需求，是各大实验室常备制样设备。

        适用于小型半导体芯片、柔性导电电极、微型传感器探头、精密电子触点等小微电子部件的表面导电改性。设备沉积的铂膜导电性优异、致密均匀、化学稳定性强，可有效降低器件接触电阻、提升表面导电性能，同时增强元器件抗氧化、抗腐蚀能力，适配微电子器件小型化、高精度的基础表面改性需求，适配小微器件研发与小批量预处理作业。

可以用于生物医疗领域，基础医用耗材预处理和高校实验室领域，教学科研两用。

二级直流溅射仪特点：

1、轻量化桌面设计，小巧便携；

2、搭载Φ50mm×0.1mm一体化高纯铂靶材，靶材纯度≥99.99%，相较金银靶材具备更强的化学稳定性与耐腐蚀性，适配高频实验与高标准检测场景。支持Au、Pt、Ag三种贵金属镀膜，内置二极溅射专属优化参数，无需反复调试即可直接调用，工艺适配度高。有效溅射面积达Φ50mm，精准匹配小型样品尺寸，无镀膜材料浪费，溅射均匀性偏差≤±5%，成膜致密均匀、附着力强。高透光硼硅酸盐玻璃样品室，支持镀膜全过程实时可视化观测，实验状态清晰可控。

3、设备电控系统针对二极溅射工艺专优化，最高工作电压-1600DCV，最大工作电流50mA，从参数层面规避电流过大导致的样品灼伤、结构损伤问题，适配各类常规样品、热敏样品镀膜。电流稳定度高达±0.1mA，输出平稳精准，标准溅射速率7nm/分钟，膜厚均匀可控。搭配0-999s秒级精准定时器，电源、冷却、控制系统联动运行，大幅提升工艺稳定性与实验重复性。设备采用常规220V市电供电，配备过载、过压双重安全防护机制。

4、搭载高精度皮拉尼真空计，测量范围覆盖1×10⁻³-1×10³mbar，经低真空场景专项校准，显示精度可达±0.01mbar，可长时间稳定维持≤4×10⁻²mbar标准工作真空度，保障镀膜均匀性与附着力。标配专属微型真空气阀，可接驳φ3mm软管通入惰性保护气体，进一步提升成膜纯度与品质。搭配适配性佳的2L/S小型机械泵，仅需3-5分钟即可完成抽真空作业，快速完成样品预处理，大幅提升实验室制样效率。