
产品简介
经典初代离子溅射仪简介:
作为品牌深耕实验室镀膜领域的奠基机型,提供适配性强的经典镀膜解决方案,采用专属优化二极直流溅射技术,用于实验室常规SEM制样、基础导电镀膜、教学科研实验。
相较于磁控溅射复杂结构,本机二极溅射架构精简可靠、故障率极低、运维成本微小,无需复杂磁路调试,可在≤4×10⁻²mbar低真空环境下持续稳定作业。设备针对实验室小型常规样品预处理场景专项优化溅射参数,工艺成熟、重复性高,操作门槛极低,是通用镀膜设备无法替代的经典基础方案,数十年市场验证适配各类常规实验室镀膜场景。
适用场景:
为扫描电镜(SEM)常规样品预处理打造,适配陶瓷、塑料、生物组织、高分子材料、绝缘复合材料等各类绝缘样品。通过镀覆高均匀度纳米铂导电薄膜,可消除样品表面电子堆积、荷电干扰问题,有效解决成像模糊、画面失真、边缘发白等问题,稳定支持10万倍以上超高倍率微观精准成像,满足材料形貌分析、微观结构检测、样品性能表征等常规科研检测需求,是各大实验室常备制样设备。
适用于小型半导体芯片、柔性导电电极、微型传感器探头、精密电子触点等小微电子部件的表面导电改性。设备沉积的铂膜导电性优异、致密均匀、化学稳定性强,可有效降低器件接触电阻、提升表面导电性能,同时增强元器件抗氧化、抗腐蚀能力,适配微电子器件小型化、高精度的基础表面改性需求,适配小微器件研发与小批量预处理作业。
可以用于生物医疗领域,基础医用耗材预处理和高校实验室领域,教学科研两用。
经典初代离子溅射仪参数:
参数类别 | 详细规格 |
主机结构 | 1、设备尺寸300mm×360mm×380mm(W×D×H),重量约35Kg,相较同类设备减重50%;2、桌面一体化设计,占地面积不足0.2㎡,部署灵活,适配小型实验室空间。 |
样品室与溅射系统 | 1、样品室尺寸160mm×120mm(D×H),高透光硼硅酸盐玻璃材质,支持全程可视化观测; 2、有效溅射面积Φ50mm,适配小型样品,无镀膜浪费; 3、上部电极靶规格Φ50mm×0.1mm,铂靶电极一体化设计,溅射均匀性偏差≤±5%。 |
靶材与可镀材料 | 1、标配≥99.99%高纯铂靶,化学稳定性、耐腐蚀性优异,适配高要求检测场景; 2、支持Au、Pt、Ag三种贵金属镀膜,内置专属工艺参数,无需反复调试。 |
真空与气路系统 | 1、搭载皮拉尼真空计,测量范围1×10⁻³-1×10³mbar,显示精度±0.01mbar,稳定维持≤4×10⁻²mbar工作真空度; 2、配备微型真空气阀,可连接φ3mm软管通入惰性气体,提升成膜质量。 |
电源与控制参数 | 1、220V AC、50Hz市电供电,具备过载、过压双重保护; 2、最高电压-1600DCV,最大电流50mA,电流稳定度±0.1mA,标准溅射速率7nm/分钟; 3、0-999s秒级精准定时,多系统联动控制,工艺稳定性强。 |
真空动力系统 | 标配2L/S小型机械泵,设备适配性优异,大气抽至工作真空度仅需3-5分钟,兼顾便携性与制样效率。 |

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