二极溅射离子溅射仪：在低真空环境下，电场作用使电子加速撞击工作气体（如氩气）产生等离子体，等离子体中的正离子被电场加速后高速轰击靶材表面，使靶材原子获得足够能量脱离并均匀沉积在样品表面，形成致密的纳米级导电薄膜。

二极溅射离子溅射仪简介：

       采用专属二极溅射技术，属于物理气相沉积（PVD）范畴，核心结构由阴极靶（铂靶）与阳极样品室构成。在低真空环境下，电场作用使电子加速撞击工作气体（如氩气）产生等离子体，等离子体中的正离子被电场加速后高速轰击靶材表面，使靶材原子获得足够能量脱离并均匀沉积在样品表面，形成致密的纳米级导电薄膜。相较于磁控溅射，二极溅射结构更适配小型桌面设备，无需复杂磁路设计，可在≤4×10⁻²mbar低真空下稳定运行，兼顾操作便捷性与薄膜附着力，针对小型样品预处理场景优化的溅射参数，是通用镀膜设备难以替代的专属技术方案。

可以应用场景：

       专为扫描电镜（SEM）样品预处理设计，为陶瓷、塑料、生物组织、高分子材料等绝缘样品喷镀铂膜，消除电子积累导致的成像模糊，支持10万倍以上高倍镜精准成像，是材料形貌分析、微观结构检测的必需要备的预处理设备。

       用于小型半导体芯片、柔性电极、微型传感器探头等部件的表面导电处理，沉积的铂膜导电性强、化学稳定性高，可降低接触电阻，适配微电子器件小型化、高精度的表面改性需求。

       医疗耗材表面制备微米级铂电极，利用铂的生物相容性避免与样本反应，保障检测信号稳定传输，助力精准医疗耗材的小型化制备。

       适配高校材料、电子、生物等专业教学与科研需求，设备体积小、操作简单，可快速完成小批量样品镀膜实验，帮助学生掌握二极溅射核心原理，是教学与科研兼顾的高性价比设备。

二极溅射离子溅射仪参数：

        样品室尺寸160mm×120mm（D×H），采用高透光硼硅酸盐玻璃材质，可实时观察镀膜全过程；溅射面积Φ50mm，精准匹配小型样品尺寸，无镀膜浪费。上部电极（靶）为Φ50mm×0.1mm规格，标配铂（Pt）靶材与电极一体化设计，溅射均匀性偏差≤±5%。标配2L/S小型机械泵，泵体与主机适配性佳，从大气抽至工作真空度仅需3-5分钟，兼顾便携性与效率。

备注：

       整机提供两年免费保修服务（易损件除外），质保期内提供免费上门维修、技术支持及配件更换服务，质保期后也提供技术咨询与维护指导。