多功能溅射设备：是电镜制样、材料电极制备、基础镀膜实验场景的高性价比通用主流设备。

多功能溅射设备简介：

       SD-2000Ⅲ三靶离子溅射仪是实验室经济型多功能溅射设备的优选机型，以三靶独立切换、免换气免换靶多层膜制备、颗粒精细可控、安全稳定、高性价比为核心优势，解决传统单靶设备操作繁琐、工艺单一、膜层一致性差等痛点。设备操作简单、运行可靠、拓展性强，既可满足SEM电镜制样、材料电极制备、基础镀膜实验等常规科研需求，又适配高校教学实训常态化使用，是各大实验室通用性强、实用性高的多靶离子溅射预处理设备。

核心技术原理：

精准可控直流溅射，成膜均匀纯净

     SD-2000Ⅲ严格依托二极（DC）直流溅射技术原理工作，在低真空环境下利用电场激发气体电离，形成稳定等离子体。设备搭载高精度溅射电流调整控制器与智能微型真空气阀，配合内置自动控制电路，可精准闭环调控真空室压强、电离电流与工作气体类型。结合大容量专用溅射真空室与大尺寸匹配溅射靶结构，让离子轰击更均匀、靶材原子剥离更稳定，最终在样品表面形成致密、纯净、一致性高的纳米级导电薄膜。

     区别于传统普通溅射设备，本机支持电流、压强双参数联动调节，可精准控制镀膜速率与膜层颗粒尺寸（4-20nm可控），适配不同样品对膜层细腻度、厚度的差异化需求。SETPLASMA手动预设启动功能，可提前锁定压强、溅射电流参数，杜绝开机参数波动对薄膜造成损伤，大幅提升实验稳定性与成品良率。同时配备真空保护机制，可自动规避真空异常导致的设备短路风险，运行安全可靠。

多功能溅射设备技术参数：

主机规格：整机尺寸340mm×390mm×300mm（W×D×H），桌面紧凑型设计，部署灵活、占用空间小。

靶材系统：标配三靶头结构，上部电极靶规格Φ50mm×0.1mm，支持金、银、铂、铜、铱等多类靶材适配，可自由切换多材质镀膜工艺。

样品室结构：采用高透光硼硅酸盐玻璃样品室，尺寸170mm×130mm（D×H），全程可视镀膜过程；搭载自动旋转样品台，可跟随靶材工作状态自适应旋转，保障膜厚均匀一致。

真空与气路系统：极限工作真空度≤4×10⁻²mbar，配备微型精密真空气阀，可对接Φ3mm软管，支持通入多种惰性气体，优化镀膜纯度与膜层质量。

电气控制参数：最高工作电压-1600DCV，最大工作电流50mA；搭载0-999S数码精准定时器，秒级控时、镀膜厚度精准可控；镀膜速率0-40nm/min连续可调，膜层颗粒4-20nm精细化可控。

真空动力系统：标配2L/S专用机械泵，抽气稳定、噪音低、适配性强，可快速建立标准工作真空环境，满足高频次样品处理需求。