三靶离子溅射仪：是电镜制样、材料电极制备、基础镀膜实验场景的高性价比通用主流设备。

三靶离子溅射仪简介：

       一款升级款三靶位全自动二极直流溅射设备，基于成熟稳定的DC直流二极溅射原理打造，主打一机多材、无需换气、免换靶镀膜、参数可调可控。设备突破传统单靶、双靶溅射仪操作繁琐、只能制备单层膜的局限，搭载三靶独立工作系统，可在不更换靶材、不重新抽真空的前提下，一键切换靶材、连续制备单层或多层复合薄膜，兼顾经济性、稳定性与工艺拓展性。整机结构精简、操作简易、运行可靠，是电镜制样、材料电极制备、基础镀膜实验场景的高性价比通用主流设备。

核心技术原理：精准可控直流溅射，成膜均匀纯净

       SD-2000Ⅲ严格依托二极（DC）直流溅射技术原理工作，在低真空环境下利用电场激发气体电离，形成稳定等离子体。设备搭载高精度溅射电流调整控制器与智能微型真空气阀，配合内置自动控制电路，可精准闭环调控真空室压强、电离电流与工作气体类型。结合大容量专用溅射真空室与大尺寸匹配溅射靶结构，让离子轰击更均匀、靶材原子剥离更稳定，最终在样品表面形成致密、纯净、一致性高的纳米级导电薄膜。

       三靶离子溅射仪区别于传统普通溅射设备，本机支持电流、压强双参数联动调节，可精准控制镀膜速率与膜层颗粒尺寸（4-20nm可控），适配不同样品对膜层细腻度、厚度的差异化需求。SETPLASMA手动预设启动功能，可提前锁定压强、溅射电流参数，杜绝开机参数波动对薄膜造成损伤，大幅提升实验稳定性与成品良率。同时配备真空保护机制，可自动规避真空异常导致的设备短路风险，运行安全可靠。

核心产品特色：三靶免切换、多功能、高性价比

1. 三靶位独立工作，无需换气换靶，支持多层膜制备

      设备标配三靶头独立工作系统，可同时搭载金、银、铂三种常用贵金属靶材，日常实验无需反复停机换靶、无需重新抽真空换气，即可自由切换不同靶材镀膜工艺，一站式完成单层薄膜、多层复合薄膜的连续制备。大幅简化实验流程、缩短制样周期、避免多次启停真空带来的环境波动，适配多材质、多结构薄膜的研发与制备需求，是常规单靶设备无法替代的核心优势。

2. 参数全域可调，膜层颗粒细腻可控

       支持溅射电流、真空室压强双向精准调节，可按需控制镀膜速率与膜层颗粒大小，颗粒可控区间稳定在4-20nm，膜层细腻均匀、附着力强。可通过更换金、铂、银、铜、铱等不同材质靶材，定制不同致密程度、不同导电性能的精细涂层；同时可通入多种惰性气体优化镀膜环境，进一步提升薄膜纯度与致密性，适配高精度基础镀膜实验需求。

3. 智能预设置+真空保护，实验稳定安全

       配备专属SETPLASMA手动启动按键，支持实验参数提前预设锁定，开机即可稳定起溅，有效规避参数波动导致的膜层瑕疵、样品损伤问题。内置智能真空保护系统，实时监测腔体真空状态，可自动拦截真空异常工况，杜绝真空过低引发的设备短路、放电异常等故障，长效保障设备与实验安全，适合实验室高频次、常态化连续使用。

4. 极简机身设计，经济可靠、适用性广

       整机结构简约紧凑、外观精致，操作门槛极低、运维成本低廉，兼具稳定性与经济性。桌面式一体化机身不占空间，适配各类常规实验室布局，兼顾教学演示、常规科研、小批量预处理作业，是通用性强的经济型主力溅射设备。