桌面型磁控溅射仪：搭载透明玻璃腔体、低温无热损伤溅射工艺，可更换金 / 铂 / 银等靶材，镀层颗粒 4–20nm 可调，适配 SEM 绝缘样品喷镀、实验室导电电极制备。

桌面型磁控溅射仪简介：

       一款专为实验室精密样品处理、微电子加工、医疗耗材制备打造的桌面型高精度低温镀膜设备。依托优化低真空磁控溅射核心技术，打破传统蒸镀设备高温损伤、膜层不均、附着力弱的痛点，以小型化机身、稳定的等离子溅射工艺、精准可控的纳米镀膜效果，兼顾高效性、安全性与通用性，全面适配多领域高精度镀膜需求，是科研成像、精密器件表面改性的核心配套设备。

技术优势：

     低温无损，镀膜更精准稳定

     设备采用成熟的低真空磁控溅射喷金技术，通过磁场精准束缚电子运动，让电子在电场与磁场协同作用下高频撞击氩气等工作气体，稳定激发产生等离子体。等离子体正离子加速轰击高纯度贵金属靶材，使靶材原子均匀剥离、沉积于样品表面，形成致密、均匀、附着力强的纳米级导电薄膜。

     相较于传统镀膜设备，SD-900M无需高温加热靶材，全程低温镀膜可杜绝样品热损伤，适配热敏性样品处理；专属优化磁路设计，可在≤4×10⁻²mbar低真空环境下稳定工作，无需高真空复杂工况，既简化设备操作、缩小设备体积，又保障±5%以内的超低镀膜均匀性偏差，镀膜质量超传统工艺。

桌面型磁控溅射仪亮点：

    小巧便携，智能高效易操作

1. 桌面极简设计，占地小、易部署

       整机尺寸300mm×360mm×380mm，重量仅40Kg（含真空泵），占地面积不足0.2㎡，无需专用实验室空间，桌面即可放置部署，适配各类实验室、小型生产线的安装使用需求，灵活度高。

2. 优质配置，镀膜工艺稳定，可获得好的薄膜效果

       搭载Φ50mm高纯铂靶（纯度≥99.99%），支持金、银、铂三种贵金属镀膜，溅射面积大、利用率高；高透光硼硅酸盐玻璃样品室，可实时直观观察镀膜全过程；标配2L/S小型机械泵，3-5分钟即可从大气抽至工作真空度，处理效率大幅提升。

3. 精准可控，适配多样品需求

        搭载高精度皮拉尼真空计，精准覆盖1×10⁻³-1×10³mbar真空量程，真空度稳定可控；0-999S秒级精准定时器，可按需调节镀膜时长，标准溅射速率达40nm/分钟，膜层厚度均匀可控。可选配电冷系统，针对性保护超薄膜、超长溅射、超高热敏样品，实现全品类样品兼容。

4. 安全稳定，适配长期作业

        采用220V常规市电供电，无需专用工业电源，配备过载、过压双重防护机制，搭配微型精密真空气阀，可稳定接入惰性保护气体，设备运行安全可靠，故障率低，满足实验室高频次、常态化使用需求。