喷金喷碳一体机：双功能共享一套真空系统与控制系统，无需更换设备即可完成两种预处理工艺，大幅提升样品处理效率与兼容性。

Name: 喷金喷碳一体机SD-900C
Brand: VPI/博远微朗
Availability: InStock

产品型号：SD-900C

更新时间：2026-09-17

厂商性质：生产厂家

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喷金喷碳一体机简介：

集成直流溅射+碳纤维绳热蒸发双工艺的复合型PVD物理气相沉积设备，突破传统单一喷金、喷碳设备的功能局限，一台设备即可完成导电喷金、超薄喷碳两种样品预处理工艺。设备采用一体化真空与控制系统，无需更换机型、无需复杂改装，兼顾SEM、TEM双电镜制样需求，适配科研检测、材料研发、生物医疗、高校教学等多场景，是目前通用性与性价比兼具的实验室精密镀膜核心设备。

创新性融合直流溅射喷金与碳纤维绳热蒸发喷碳两大核心技术，双工艺共享同一套真空系统与智能控制系统，结构集成度高、操作便捷，解决了传统设备功能单一，换样繁琐、工艺受限的行业痛点，是单一功能设备无法替代的复合型解决方案。

直流溅射喷金工艺：

设备可在≤4×10⁻²mbar低真空环境下稳定工作，电离氩气产生均匀等离子体，高速正离子持续轰击高纯度铂靶材，使铂原子均匀剥离沉积，在样品表面形成致密、高附着力、高导电的纳米级铂膜，镀膜均匀性优异，可满足常规绝缘样品的导电改性需求。

碳纤维绳热蒸发喷碳工艺：

采用定制化专属碳纤维蒸发源，通过28V高压、100A大电流瞬时加热技术，让碳纤维绳快速均匀蒸发，在样品表面沉积超薄高纯碳膜。依托0-1s超短精准定时控制，可精准调控10-50nm超薄碳膜厚度，适配热敏、超薄、高精度样品的镀膜需求，碳膜纯度、附着力均优于传统石墨蒸发工艺。

喷金喷碳一体机参数：

参数类别	详细规格
整机结构	1、采用主机+副机分体式设计，主机尺寸300mm×360mm×380mm、副机300mm×360mm×140mm（W×D×H）， 2、总重40Kg，副机专属承载热蒸发模块，主机集成溅射与真空系统，布局优化且占用空间仅0.22㎡，较同类复合设备体积缩减40%，适配实验室紧凑空间，一体化复合结构无通用替代方案。
样品室与双功能系统	1、样品室尺寸160mm×120mm（D×H），采用高透光硼硅酸盐玻璃，可实时观察双功能镀膜过程。 2、溅射面积Φ50mm，蒸碳面积70mm。
靶材与蒸发材料	标配Φ50mm×0.1mm高纯度铂（Pt）靶材（纯度99.99%），溅射均匀性偏差≤±3%；蒸发材料采用专属碳纤维绳，耐高温、蒸发速率稳定，相较于石墨蒸发源，碳膜纯度更高、附着力更强，且与热蒸发模块精准适配。
溅射与蒸碳控制参数	1、溅射参数：最高电压-1600DCV，最大电流50mA，电流稳定度±0.1mA，标准溅射速率40nm/分钟， 0-999s定时器秒级调控； 2、蒸碳参数：最高电压28V，最大电流100A， 0-1s瞬时加热控制，可精准制备10-50nm超薄碳膜。
真空与气路系统	皮拉尼真空计，测量范围1×10⁻³-1×10³mbar，显示精度±0.01mbar，可稳定维持≤4×10⁻²mbar工作真空度；专属微型真空气阀可连接φ3mm软管，可连通惰性气体提高成膜质量，保障双功能真空环境稳定性。
动力与冷却系统	1、标配2L/S机械泵，与双功能系统适配性佳，运行噪音≤55dB，从大气抽至工作真空度仅需3-5分钟； 2、冷却系统标配风冷，效率较通用风冷提升25%。
靶体配置	1、标配二极直流溅射靶，满足常规喷金需求； 2、选配磁控靶（适配后溅射电流可达100mA），磁控靶采用专属磁路设计，溅射速率较二极靶提升30%。