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实验室通用型离子溅射设备
产品简介

实验室通用型离子溅射设备:在低真空环境下,电场作用使电子加速撞击工作气体(如氩气)产生等离子体,等离子体中的正离子被电场加速后高速轰击靶材表面,使靶材原子获得足够能量脱离并均匀沉积在样品表面,形成致密的纳米级导电薄膜。

产品型号:SD-900
更新时间:2026-09-16
厂商性质:生产厂家
访问量:39
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实验室通用型离子溅射设备简介:

       SD-900是一款实验室通用型基础二极离子溅射设备,依托成熟稳定的PVD物理气相沉积工艺,主打高性价比、极简操作、稳定镀膜、小巧便携。作为实验室使用率最高、适配场景广的基础喷金设备,摒弃复杂冗余结构,以简约可靠的二极溅射核心技术,适配各类常规样品SEM制样、微电子改性、教学科研实验需求,是各大高校、科研院所、检测机构标准化、常态化样品预处理的入门机型。

       采用专属优化二极溅射技术,核心由阴极铂靶材与阳极样品室构成简易高效溅射结构,属于经典物理气相沉积技术范畴。设备在低真空工作环境下,通过电场加速电子,高速撞击氩气等工作气体激发产生均匀等离子体;等离子体内部正离子经电场二次加速,持续轰击贵金属靶材表面,使靶材原子获得能量脱离靶面,均匀沉积附着于样品表面,形成致密、均匀、附着力优异的纳米级导电薄膜。

       相较于传统磁控溅射设备,二极溅射结构设计更精简、故障率更低、运维成本更低,无需复杂磁路结构加持,可在≤4×10⁻²mbar低真空环境下持续稳定工作。设备针对实验室小型样品预处理场景专项优化溅射参数,在保证优异薄膜附着力与均匀度的同时,大幅降低设备成本与操作门槛,兼顾实用性、稳定性与高性价比,是通用精密样品镀膜场景不可替代的基础方案。


应用场景覆盖科研、产业、教学领域:

1. 科研检测领域,SEM制样标配设备

        专为扫描电镜(SEM)常规样品预处理量身打造,适配陶瓷、塑料、生物组织、高分子材料、绝缘复合材料等各类绝缘样品。通过均匀镀覆纳米级铂导电薄膜,可消除样品表面电子堆积、荷电干扰问题,有效解决成像模糊、画面失真、边缘发白等常见问题,稳定支持10万倍以上超高倍率微观精准成像,是材料形貌分析、微观结构检测、样品性能表征的基础设备,适配各类常规科研检测场景。

2. 电子元器件领域,微型器件表面改性

       适用于小型半导体芯片、柔性导电电极、微型传感器探头、精密电子触点等小微电子部件的表面导电改性。设备沉积的铂膜导电性优异、致密均匀、化学稳定性强,可有效降低器件接触电阻、提升表面导电性能,同时增强元器件抗氧化、抗腐蚀能力,适配微电子器件小型化、高精度、高稳定性的基础改性需求,适配小微器件研发与小批量预处理作业。

3. 生物医疗领域,基础医用耗材预处理

       依托高纯铂材优异的生物相容性与化学惰性,可在血糖仪试纸、DNA检测芯片、常规生物传感耗材表面精准制备导电铂膜电极。镀膜层性质稳定,不会与生物样本、检测试剂发生化学反应,可有效规避检测干扰,持续保障检测信号稳定传输,满足基础精准医疗耗材的研发、测试与小批量制备需求,适配常规生物医疗实验预处理场景。

4. 高校实验室领域,教学科研两用高性价比机型

       深度适配高校材料、电子、生物、化工等专业的教学实训与基础科研工作。设备结构直观、操作极简、工艺原理清晰,可完整展示二极离子溅射PVD镀膜核心原理,教学演示效果直观易懂;同时支持小批量样品快速镀膜实验,既能满足日常课堂教学、实训演示需求,又可支撑师生基础科研创新实验,以高性价比实现教学与科研双重赋能,是高校实验室标配基础镀膜设备。


实验室通用型离子溅射设备参数:

参数类别

详细规格

主机结构

1、 尺寸300mm×360mm×380mm(W×D×H),重量仅~35Kg,较同类设备轻50%,

2、 桌面型一体化设计,占地面积不足0.2㎡,可灵活放置于实验室角落、通风橱旁,无需单独规划场地,是小型空间场景的专属选型,大型设备无法替代其便携性。

样品室与溅射系统

1、 样品室尺寸160mm×120mm(D×H),采用高透光硼硅酸盐玻璃材质,可实时观察镀膜全过程;

2、 溅射面积Φ50mm,精准匹配小型样品尺寸,无镀膜浪费。

3、 上部电极(靶)为Φ50mm×0.1mm规格,标配铂(Pt)靶材与电极一体化设计,溅射均匀性偏差≤±5%。

靶材与可镀材料

1、 标配1片高纯度铂(Pt)靶材(纯度≥99.99%),相较于金、银靶材具备更优异的化学稳定性与耐腐蚀性,适配高要求检测场景;

2、 支持Au、Pt、Ag三种贵金属镀膜,针对二极溅射工艺优化的参数预设,可直接调用无需反复调试,通用设备难以实现精准适配。

真空与气路系统

1、 采用皮拉尼真空计,测量范围精准覆盖1×10⁻³-1×10³mbar,针对低真空场景专项校准,显示精度±0.01mbar,可稳定维持≤4×10⁻²mbar工作真空度,兼顾镀膜质量与抽气效率;

2、 专属微型真空气阀可直接连接φ3mm软管,用于接通惰性气体,提升膜层的质量。

电源与控制参数

1、 采用220V AC、50Hz接地三脚插头供电,具备过载、过压双重保护功能;

2、 最高电压-1600DCV,最大电流50mA(针对二极溅射工艺优化,避免电流过大损伤样品),电流稳定度±0.1mA,标准溅射速率7nm/分钟。

3、 0-999s定时器秒级调节,电源、冷却系统与控制系统专属联动,保障工艺稳定性。

真空动力系统

4、标配2L/S小型机械泵,泵体与主机适配性佳,从大气抽至工作真空度仅需3-5分钟,兼顾便携性与效率。


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