低真空超薄喷碳设备：采用低真空热蒸发技术，属于物理气相沉积（PVD）范畴，为超薄碳膜制备设计。

低真空超薄喷碳设备简介：

      采用低真空热蒸发技术，为超薄碳膜制备设计。在≤4×10⁻²mbar低真空环境下，设备通过30V高压、100A大电流精准加热碳纤维双丝，使碳纤维快速升华形成碳蒸汽，碳蒸汽在样品表面均匀沉积，形成致密、超薄的导电碳膜。核心优势在于配备A/B双碳纤维丝独立控制设计，可单独选择单丝工作或交替使用，既保障碳膜厚度均匀性，又延长蒸发材料使用寿命；1S精准定时控制，能制备10-50nm级超薄碳膜，避免样品热损伤，是热敏、超薄样品预处理的专属技术方案。

      聚焦单功能高精度喷碳工艺，以低温无损、双丝耐用、膜厚精准、机身小巧、安全稳定五大核心优势，精准解决传统镀膜设备易伤样、膜层不均、耗材浪费、体积庞大等痛点。设备兼顾科研级精密制样精度与教学级简易操作体验，一站式满足双电镜制样、新材料改性、生物医疗耗材制备、高校教学实训等多元场景需求，是各类实验室超薄碳膜制备的高性价比设备。

设备亮点：

小巧便携、精准稳定、安全高效

1. 桌面一体化设计，占地小、部署灵活

       采用一体式桌面极简结构，整机尺寸340mm×390mm×300mm，重量仅20Kg，占地面积不足0.25㎡，机身轻便小巧，可灵活放置于实验室角落、通风橱旁，无需专用安装场地与复杂调试，部署便捷、适配性强，可适配各类紧凑实验室空间。

2. 双丝蒸发系统，成膜优质、耗材耐用

       搭载专属A/B双碳纤维蒸发丝，支持独立启停、交替工作，蒸发速率稳定、耐高温、纯度高，制备的碳膜均匀致密、无杂质、附着力优异，成膜品质远超普通单丝设备。有效镀膜面积达Φ50mm，精准适配各类小型精密样品，无原材料浪费，大幅降低实验耗材成本。

3. 可视防污样品室，实验过程直观可控

       配备160mm×110mm（D×H）大尺寸高透光硼硅酸盐玻璃样品室，支持镀膜全过程实时可视化观测。玻璃表面经过专属防碳粉附着涂层处理，可有效避免碳粉堆积遮挡视野，全程保持视野清晰，便于实验人员实时把控镀膜状态、精准控制实验效果。

4. 精准参数调控，低温无损适配广

       搭载成熟稳定的电控系统，最高工作电压30V、最大工作电流100A，可快速平稳完成碳纤维丝升华，配合1秒级超高精度定时控时，精准锁定10-50nm超薄碳膜厚度，参数稳定、重复性高。全程低温镀膜工艺，无高温热损伤，全面适配各类热敏、易变形、高精密样品预处理需求。

5. 真空稳定高效，运行安全低噪

      搭载适配低真空工况的高精度皮拉尼真空计，可稳定维持≤4×10⁻²mbar标准工作真空度，保障碳膜均匀性与附着力。标配2L/S专用小型机械泵，设备适配度高、运行噪音低，仅需3-5分钟即可完成大气至工作真空度的抽气流程，样品处理效率高。设备采用220V常规市电供电，配备过载、过压双重安全防护机制，长期连续运行稳定可靠。

低真空超薄喷碳设备参数：