SD-900离子溅射仪：在低真空环境下，电场作用使电子加速撞击工作气体（如氩气）产生等离子体，等离子体中的正离子被电场加速后高速轰击靶材表面，使靶材原子获得足够能量脱离并均匀沉积在样品表面，形成致密的纳米级导电薄膜。

Name: 离子溅射仪SD-900
Brand: VPI/博远微朗
Availability: InStock

产品型号：SD-900

更新时间：2026-09-24

厂商性质：生产厂家

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SD-900离子溅射仪简介：

采用专属二极溅射技术，属于物理气相沉积（PVD）范畴，核心结构由阴极靶（铂靶）与阳极样品室构成。在低真空环境下，电场作用使电子加速撞击工作气体（如氩气）产生等离子体，等离子体中的正离子被电场加速后高速轰击靶材表面，使靶材原子获得足够能量脱离并均匀沉积在样品表面，形成致密的纳米级导电薄膜。相较于磁控溅射，二极溅射结构更适配小型桌面设备，无需复杂磁路设计，可在≤4×10⁻²mbar低真空下稳定运行，兼顾操作便捷性与薄膜附着力，针对小型样品预处理场景优化的溅射参数，是通用镀膜设备难以替代的专属技术方案。

核心应用场景：

1.科研检测领域

专为扫描电镜（SEM）样品预处理设计，为陶瓷、塑料、生物组织、高分子材料等绝缘样品喷镀铂膜，消除电子积累导致的成像模糊，支持10万倍以上高倍镜精准成像，是材料形貌分析、微观结构检测的必需要备的预处理设备。

2.电子元器件领域

用于小型半导体芯片、柔性电极、微型传感器探头等部件的表面导电处理，沉积的铂膜导电性强、化学稳定性高，可降低接触电阻，适配微电子器件小型化、高精度的表面改性需求。

3.生物医疗领域

在xue糖仪试纸、DNA检测芯片等医疗耗材表面制备微米级铂电极，利用铂的生物相容性避免与样本反应，保障检测信号稳定传输，助力精准医疗耗材的小型化制备。

4.高校实验室领域

适配高校材料、电子、生物等专业教学与科研需求，设备体积小、操作简单，可快速完成小批量样品镀膜实验，帮助学生掌握二极溅射核心原理，是教学与科研兼顾的高性价比设备。

离子溅射仪参数：

参数类别	详细规格
主机结构	1、尺寸300mm×360mm×380mm（W×D×H），重量仅~35Kg，较同类设备轻50%， 2、桌面型一体化设计，占地面积不足0.2㎡，可灵活放置于实验室角落、通风橱旁，无需单独规划场地，是小型空间场景的专属选型，大型设备无法替代其便携性。
样品室与溅射系统	1、样品室尺寸160mm×120mm（D×H），采用高透光硼硅酸盐玻璃材质，可实时观察镀膜全过程； 2、溅射面积Φ50mm，精准匹配小型样品尺寸，无镀膜浪费。 3、上部电极（靶）为Φ50mm×0.1mm规格，标配铂（Pt）靶材与电极一体化设计，溅射均匀性偏差≤±5%。
靶材与可镀材料	1、标配1片高纯度铂（Pt）靶材（纯度≥99.99%），相较于金、银靶材具备更优异的化学稳定性与耐腐蚀性，适配高要求检测场景； 2、支持Au、Pt、Ag三种贵金属镀膜，针对二极溅射工艺优化的参数预设，可直接调用无需反复调试，通用设备难以实现精准适配。
真空与气路系统	1、采用皮拉尼真空计，测量范围精准覆盖1×10⁻³-1×10³mbar，针对低真空场景专项校准，显示精度±0.01mbar，可稳定维持≤4×10⁻²mbar工作真空度，兼顾镀膜质量与抽气效率； 2、专属微型真空气阀可直接连接φ3mm软管，用于接通惰性气体，提升膜层的质量。
电源与控制参数	1、采用220V AC、50Hz接地三脚插头供电，具备过载、过压双重保护功能； 2、最高电压-1600DCV，最大电流50mA（针对二极溅射工艺优化，避免电流过大损伤样品），电流稳定度±0.1mA，标准溅射速率7nm/分钟。 3、 0-999s定时器秒级调节，电源、冷却系统与控制系统专属联动，保障工艺稳定性。
真空动力系统	4、标配2L/S小型机械泵，泵体与主机适配性佳，从大气抽至工作真空度仅需3-5分钟，兼顾便携性与效率。